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綜述了稀(xi)土拋光(guang)粉的(de)各種制造工藝及(ji)其(qi)在玻璃拋光(guang)領域(yu)的(de)應用現(xian)狀(zhuang),以稀(xi)土拋光(guang)粉不拋光(guang)設備(bei)、拋光(guang)漿和(he)拋光(guang)平(ping)臺的(de)類型(xing),以及(ji)拋光(guang)玻璃的(de)件(jian)數,拋光(guang)粉的(de)成(cheng)本(ben)、產量(liang)和(he)。

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摘要:綜(zong)述了稀(xi)土(tu)拋(pao)光粉的(de)(de)各種制造工藝及(ji)其在(zai)玻(bo)璃拋(pao)光領域的(de)(de)應用現狀,以稀(xi)土(tu)1譚剛;;納米CeO_2拋(pao)光料(liao)對硅晶片進行化學機械拋(pao)光的(de)(de)研(yan)究[A];中國微米。

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該設備(bei)主要具有以下優勢(shi):生產效率(lv)高:針對稀(xi)土拋光粉(fen)的(de)特(te)性專業開(kai)發的(de)強力分(fen)(fen)散(san)解(jie)離裝置(zhi),先對粉(fen)體進(jin)行有效的(de)分(fen)(fen)散(san)解(jie)離;結合稀(xi)土原料粒度特(te)性,創(chuang)新采用先分(fen)(fen)級后粉(fen)碎的(de)。

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2013年1月10日-日本(ben)(ben)生(sheng)產稀土拋(pao)光(guang)粉的(de)原(yuan)料采用氟(fu)碳鈰(shi)礦、粗氯化(hua)鈰(shi)和(he)氯化(hua)稀土三種,工(gong)藝上各不(bu)相同(tong)。日本(ben)(ben)稀土拋(pao)光(guang)粉的(de)生(sheng)產在燒結設備和(he)技(ji)術上均具特色(se)。1968年,我國在。

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2012年5月31日-稀土拋(pao)光(guang)(guang)(guang)粉的(de)材料:為了增(zeng)加氧化鈰(shi)的(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)速度,通(tong)(tong)常(chang)在氧化鈰(shi)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)粉加入(ru)氟(fu)以增(zeng)加磨削率。鈰(shi)含量(liang)較低的(de)混合稀土拋(pao)光(guang)(guang)(guang)粉通(tong)(tong)常(chang)摻有3-8的(de)氟(fu);純氧化鈰(shi)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)粉。

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得天獨厚的(de)稀土資源,選用優質的(de)稀土原料、先進的(de)生產設備,使用濕(shi)法分級和動態焙燒的(de)新工(gong)藝,利用有效的(de)檢(jian)測(ce)控制手段,保證了(le)稀土拋光粉的(de)粒度(du)均勻性和硬度(du)的(de)一致性。

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